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凈化工程是指控制產(chǎn)品（如硅芯片等）所接觸大氣的潔凈度、溫度和濕度，使產(chǎn)品在良好的環(huán)境空間內(nèi)生產(chǎn)制造。
氣流速度是指凈化工程室內(nèi)的氣流速度。由于室內(nèi)污染程度主要靠空氣的稀釋來降低，所以這里主要用換氣次數(shù)的概念，而不是直接用速度的概念。但對室內(nèi)氣流速度也有以下要求；
(1)送風(fēng)口出口風(fēng)速不宜過大。與純空調(diào)房間相比，速度衰減越快，擴(kuò)散角越大。
(2)吹過水平面的氣流速度(如側(cè)送時(shí)的回流速度)不宜過高，以免將表面顆粒吹回氣流中造成再次污染。一般這個(gè)速度不應(yīng)大于0.2m/s。
對于平行流凈化工程房來說，橫截面上的速度是一個(gè)非常重要的指標(biāo)，因?yàn)樗饕揽繗饬骰钊臄D壓來消除污染。
